99,7 % Hochleistungs-Aluminiumoxidkeramik
Hochreine Aluminiumoxidkeramik (Al2O3:>99,7%)
-Polierplatte/Drehtisch für Aluminiumoxid-Wafer
-Großformatige, hochreine Aluminiumoxid-Grundplatte für LCD-Fertigungsanlagen
Material:
Hochreines AluminiumoxidAl2O3:>99,7%
Anwendung:
Halbleiter-, Erdöl-, Chemie-, Photovoltaik- und LCD-Industrie etc. – wir verwenden mechanische und elektronische Bauteile, Mikrowelleninduktionsscheiben und Isolierteile. Dazu gehören die Herstellung von Halbleiterbauelementen, Vakuumanlagen, Anlagen zur Flüssigkristallfertigung und anderen Komponenten. Beispielsweise ist die großflächige, hochreine Aluminiumoxid-Keramik-Wafer-Polierplatte/der Drehtisch eine wichtige Komponente des chemisch-mechanischen Polierens (CMP) und dient als Aluminiumoxid-Grundplatte für LCDs.
Merkmale:
Hochreines Aluminium2O399,7 % - 99,9 %
Hohe mechanische Festigkeit
Hohe Verschleißfestigkeit
Hohe elektrische Isolierung
Hohe chemische Beständigkeit
Gute Hitze- und Korrosionsbeständigkeit
Herstellervorteil:
Wir besitzen das unabhängige geistige Eigentum am PIBM-Spontanverfestigungssystem und produzieren professionell hochwertige Feinkeramikkomponenten.
Die neue Technologie überwindet die Probleme der Verformung und Rissbildung bei großformatigen, nassgeformten Keramikrohlingen im Herstellungsprozess, und die Produktleistung wird für die mit herkömmlichen Methoden hergestellten großformatigen Keramikteile deutlich optimiert.
Chemshun Ceramics fertigt Saphir-Latschwafer aus Aluminiumoxidkeramik im PIBM-Verfahren. Diese international fortschrittliche Technologie löst erfolgreich das Hauptproblem von Rissen und Verformungen bei großformatiger Aluminiumoxidkeramik. PIBM eröffnet neue Möglichkeiten in der Feinkeramikherstellung. Wir produzieren nicht nur hochwertige Polierplatten für Aluminiumoxidkeramik, sondern auch andere großformatige, hochreine Aluminiumoxidkeramiken, wie z. B. 1200 x 500 x 20 mm große Keramiksubstrate für LCD-Fertigungsanlagen, Leiterbahnen für die Halbleiterindustrie, Vakuumkomponenten, allgemeine mechanische Bauteile und kugelsichere Keramik.
Produktform und -größe
1. Polierplatte/Drehtisch für Aluminiumoxid-Wafer. Scheibe, Ringgröße unter 850 mm, Dicke 45 mm.
2. Aluminiumoxid-Grundplatten für LCDs als Trägerplatten. Formen: längliche Platten, längliche Leisten, quadratische Platten, dünne Platten mit Abmessungen unter 1500 x 600 mm, z. B.: 1200 x 500 x 20 mm, 1400 x 900 x 30 mm usw.
3. Führungsschienen unterhalb von 1000 * 45 * 45 mm.
4. Leere Röhren, Zylinder, elektrische Vakuumröhren usw. mit Abmessungen unter 300 ~ 600 × L500mm.
5. Kundenspezifische Produkte mit Teilen in verschiedenen Formen werden akzeptiert.
Hauptparameter: (Chemisch / physikalisch):
| Eigentum | Artikel | Einheit | Chemshun 99,7 % Aluminiumoxidkeramik |
| Allgemeine Eigenschaften | Hauptkomponente | Gew.-% | 99,7-99,9 |
| Dichte | gm/cc | 3,94-3,97 | |
| Farbe | - | Elfenbein | |
| Wasseraufnahme | % | 0 | |
| Mechanische Eigenschaften | Biegefestigkeit (MOR) 20 ℃ | MPa (psi x 10^3) | 440-550 |
| Elastizitätsmodul 20℃ | GPa (psix10^6) | 375 | |
| Vickers-Härte | GPa (kg/mm²) R45N | >=17 | |
| Biegefestigkeit | Notendurchschnitt | 390 | |
| Zugfestigkeit 25℃ | MPa(psix10^3) | 248 | |
| Bruchzähigkeit (KI c) | MPa* m^1/2 | 4-5 | |
| Thermische Eigenschaften | Wärmeleitfähigkeit (20℃) | W/mk | 30 |
| Wärmeausdehnungskoeffizient (25-1000℃) | 1x 10^-6/℃ | 7.6 | |
| Beständigkeit gegen Temperaturschocks | ℃(∆ Tc) | 200 | |
| Maximale Einsatztemperatur | ℃ | 1700 | |
| Elektrische Eigenschaften | Durchschlagsfestigkeit (1 MHz) | ac-kV/mm (AC V/Mil) | 8,7 |
| Dielektrizitätskonstante (1 MHz) | 25℃ | 9,7 | |
| Volumenwiderstand | Ohm-cm (25℃) | >10^14 | |
| Ohm-cm (500℃) | 2×10^12 | ||
| Ohm-cm (1000℃) | 2×10^7 |
Formgebungsprozess Keramik-Veredelungsprozess
Qualitätssicherung:
Die Produkte jeder Charge werden im Werkslabor und im Nationalen Inspektionszentrum geprüft.
