Abbildung einer polierten Platte aus 99,7 % Aluminiumoxidwafer

Polierplatte aus 99,7% Aluminiumoxid-Wafer

Kurzbeschreibung:

Chemshun 99,7%Al₂O₃ Aluminiumoxid-Substrat ist ein hochreines und großformatiges neues Material mit hervorragenden physikalischen Eigenschaften und stabiler chemischer Zusammensetzung. Es bietet ein gutes Preis-Leistungs-Verhältnis im Vergleich zu anderen Materialien. Hochreines Aluminiumoxid wird von weltweit führenden Forschungs- und Keramikherstellern kontinuierlich weiterentwickelt.

Polierplatte aus 99,7 % Aluminiumoxid für das chemisch-mechanische Polieren (CMP). Sie ist ein wichtiger Bestandteil des CMP-Prozesses (chemisch-mechanisches Polieren). CMP ist für die Herstellung von Saphir und Halbleiterwafern unerlässlich.

Die hochreinen 99,7 % Aluminiumoxid-Keramikplatten und -scheiben von Chemshun Ceramics werden im PIBM-Verfahren (Pulverinduziertes Polieren von Keramik) hergestellt. Es handelt sich um eine international fortschrittliche Technologie. PIBM löst erfolgreich das Hauptproblem der Rissbildung und Verformung großformatiger Aluminiumoxid-Keramiken. Die PIBM-Technologie eröffnet neue Möglichkeiten in der Herstellung von Feinkeramik.

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Produktdetails

Anwendung

Wie die Aluminiumoxid-Keramikscheiben zum Polieren und Saphir-Läppscheiben, die in der Halbleiterindustrie, beim Diamantpolieren usw. verwendet werden.

Verfahren: Alle Arten von Polier- und Läppverfahren, wie z. B. chemisch-mechanisches Polieren (CMP), mechanisches Polieren und Präzisionspolieren.

Besonderheit

Hohe Reinheit und chemische Beständigkeit
Hohe mechanische Festigkeit und Härte
Hohe Korrosionsbeständigkeit
Hochspannungswiderstand
Hochtemperaturbeständig bis 1700ºC
Extrem abriebfeste Leistung
Hervorragende Isolierleistung
Alle Größen: 180, 360, 450, 600 mm usw.

Produktname	Polier- und Läppscheiben aus hochreinem Aluminiumoxid-Keramik (99,7 %)
Material	99,7% Aluminiumoxid
Normale Größe	D180, 360, 450, 600 mm, kundenspezifische Größen auf Anfrage.
Farbe	Elfenbein
Anwendung	Wafer- und Saphir-CMP-Prozess in der Halbleiterindustrie
Mindestbestellwert	1 Bild

Chemische / physikalische Informationen

		Einheit	99,7 Aluminiumoxidkeramik
Allgemeine Eigenschaften	Al2O3-Gehalt	Gew.-%	99,7-99,9
	Dichte	gm/cc	3,94-3,97
	Farbe	-	Elfenbein
	Wasseraufnahme	%	0
Mechanische Eigenschaften	Biegefestigkeit (MOR) 20 °C	MPa (psi x 10^3)	440-550
	Elastizitätsmodul 20ºC	GPa (psix10^6)	375
	Vickers-Härte	GPa (kg/mm²) R45N	>=17
	Biegefestigkeit	Notendurchschnitt	390
	Zugfestigkeit bei 25ºC	MPa(psix10^3)	248
	Bruchzähigkeit (KI c)	MPa* m^1/2	4-5
Thermische Eigenschaften	Wärmeleitfähigkeit (20ºC)	W/mk	30
	Wärmeausdehnungskoeffizient (25-1000ºC)	1x 10^-6/ºC	7.6
	Beständigkeit gegen Temperaturschocks	°C	200
	Maximale Einsatztemperatur	°C	1700
Elektrische Eigenschaften	Durchschlagsfestigkeit (1 MHz)	ac-kV/mm (AC V/Mil)	8,7
	Dielektrizitätskonstante (1 MHz)	25ºC	9,7
	Volumenwiderstand	Ohm-cm (25ºC)	>10^14
		Ohm-cm (500ºC)	2×10^12
		Ohm-cm (1000ºC)	2×10^7

Service

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